晶圆代工大厂包括台积电、英特尔、三星等公司在 2017 年陆续将工艺进入 10 纳米阶段，而且准备在 2018 年进入 7 纳米工艺的试产，甚至 2020 年还将要推出 5 纳米工艺技术。因此，随着工艺技术的提升，半导体工艺也越来越逼近极限，制造难度也越来越大。就以 5 纳米之后的工艺来说，到目前为止都没有明确的结论。对此，美国布鲁克海文国家实验室 （Brookhaven National Laboratory，简称BNL） 的研究人员日前宣布，开发出可以达成 1 纳米工艺的相关技术与设备。

根据EETimes报导，美国能源部（DOE）旗下的布鲁克海文国家实验室的研究人员，日前宣布成功的采用电子束印刷技术，成功的制造了尺寸只有 1 纳米的印刷设备。据了解，这个实验室的研究人员采用了电子显微镜，制造出了比普通电子束印刷（EBL）技术所能做出的更小的尺寸。这使得电子敏感性材料在聚焦电子束的作用下，尺寸得以大大缩小，达到了可以操纵单个原子的程度。而这项技术与设备的诞生，则可极大的改变材料特性，从导电变成光传输，或者在这两种状态下交互执行。